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Chinas jüngste technologische Durchbrüche bei den im Inland hergestellten „Deep-Ultraviolet“ (DUV)-Lithographiemaschinen stellen einen bedeutenden Meilenstein in der Halbleiterindustrie des Landes dar und werden dazu beitragen, die Abhängigkeit von ausländischer Chiptechnologie zu verringern und die Wettbewerbsfähigkeit der eigenen Halbleiterindustrie zu stärken, versicherten Experten.

Ihre Kommentare kamen, nachdem das Ministerium für Industrie und Informationstechnologie bekannt gegeben hatte, dass eine der DUV-Lithographiemaschinen, die bei einer Wellenlänge von 193 Nanometern (nm) mit einer Auflösung von unter 65 nm und einer Überlagerungsgenauigkeit von unter 8 nm arbeitet, in den Katalog für wichtiges technologisches Equipment („major technical equipment“) aufgenommen wurde. In dem Katalog wurde jedoch nicht angegeben, welche chinesischen Unternehmen die DUV-Lithografiemaschinen herstellen.

Chinas erste Gruppe dieser wichtigen Geräte würden sich auf jene Produkte beziehen, die wichtige technologische Fortschritte erzielen und über geistige Eigentumsrechte verfügen, aber noch nicht auf dem Markt eingeführt sind, so das Ministerium. Dazu gehören komplette Anlagen, Kernsysteme und Schlüsselkomponenten.

Das Ministerium forderte die lokalen Regierungen auf, die politische Koordinierung in Bereichen wie Industrie, Finanzen und Technologie zu verstärken, um die innovative Entwicklung und Anwendung solcher Anlagen zu fördern.

DUV-Lithografiemaschinen werden für die Herstellung bestimmter Arten von Halbleiterbauelementen wie Speicherchips verwendet. 

Xiang Ligang, Generaldirektor der Information Consumption Alliance, einem Verband der Telekommunikationsindustrie in China, sagte, die jüngsten Errungenschaften bei den wichtigsten Chipherstellungsanlagen des Landes zeigten, dass chinesische Chiphersteller relativ fortschrittliche, im Inland hergestellte Halbleitermaschinen einsetzen könnten, was zur Verbesserung des Fertigungsniveaus und zur Sicherstellung der Versorgung mit einheimischen Chips beitrage. Er wies darauf hin, dass die Förderung und der Einsatz von selbst hergestellten DUV-Lithografiemaschinen von entscheidender Bedeutung seien, um die negativen Auswirkungen der Sanktionen westlicher Länder auf kritische Technologien abzumildern und die unabhängige Innovationsfähigkeit der chinesischen Halbleiterindustrie zu stärken.

„Es wird erwartet, dass mit der weiteren Reifung der einheimischen Lithografiesysteme und der allmählichen Ausweitung der Anwendungen weitere Spitzentechnologien und -ausrüstungen für die Chipherstellung entstehen werden, die den Selbstversorgungsgrad des Landes in der Chipherstellung weiter erhöhen und den Halbleiterproduktionssektor in Richtung hochwertiger Produktion bewegen werden“, sagte Xiang.

Die großen technologischen Durchbrüche bei den einheimischen Lithografiemaschinen kamen, nachdem die niederländische Regierung Anfang September angekündigt hatte, dass sie die Exportbeschränkungen für fortschrittliche Halbleiterfertigungsanlagen weiter ausweiten und die Lizenzanforderungen für die Maschinen des Chipfertigungsunternehmens ASML in ihren Zuständigkeitsbereich aufnehmen werde.

Li Xianjun, wissenschaftlicher Mitarbeiter am Institut für Industrieökonomie der Chinesischen Akademie der Sozialwissenschaften, sagte, dass die verschärften Exportkontrollen angesichts der wachsenden Präsenz Chinas in der Halbleiterherstellung die Stabilität der globalen Halbleiterindustrie und der Lieferketten ernsthaft gefährden und die internationale technologische Zusammenarbeit behindern würden.

Er betonte, dass die jüngsten bemerkenswerten Fortschritte bei der Herstellung von Lithographieanlagen neue Geschäftsmöglichkeiten für chinesische Halbleiterunternehmen eröffnen und sie dazu motivieren werden, angesichts des zunehmend verschärften Wettbewerbs im globalen Halbleitersektor mehr Ressourcen für technologische Innovationen einzusetzen.