Produktionsstätte
Heraeus investiert in Quarz-Halbleiterbasis in Liaoning

Screenshot des offiziellen WeChat-Accounts von Heraeus.
Der deutsche Technologiekonzern Heraeus und das japanische Technologieunternehmen Shin-Etsu Chemical (Shin-Etsu) haben in Shenyang in der nordostchinesischen Provinz Liaoning mit dem Bau einer neuen Produktionsstätte für Quarzhalbleiter begonnen. Dies teilte Heraeus am Mittwoch über seinen offiziellen WeChat-Account mit.
Die Produktionsstätte, in die 500 Millionen Yuan (ca. 70 Mio. Euro) investiert werden, soll nach ihrer Fertigstellung über eine Grundfläche von 68.100 Quadratmetern sowie eine Gebäudefläche von 89.500 Quadratmetern verfügen und im Juni 2024 in Betrieb genommen werden, um eine Reihe von hochreinen Quarzprodukten für die Halbleiterindustrie herzustellen.
Es wird erwartet, dass das neue Werk nach Aufnahme des offiziellen Betriebs eine jährliche Kapazität von 560 Millionen Yuan erreichen und 45 Millionen Yuan an jährlichen Steuerzahlungen für die lokale Finanzbehörde generieren wird, zusätzlich zu mindestens 200 neuen Arbeitsplätzen im privaten Sektor, berichtete China News Service.
Ein Vertreter von Heraeus sagte während der Eröffnungszeremonie, dass das neue Werk die einzige Produktionsstätte für Quarzprodukte in China sowie einer der wichtigsten Lieferanten für die Kunden des Unternehmens in China sein werde.
Das neue Heraeus-Werk werde von der Materialauswahl über die Fertigung bis hin zur Prüfung mit einer Top-Produktionslinie ausgestattet sein und den Kunden einen maßgeschneiderten technischen Support bieten können, heißt es in dem Artikel.
Am Dienstag hat auch der deutsche Optikriese ZEISS seine Investitionen in China erhöht und ein Gebäude auf einem Grundstück bauen lassen, welches das Unternehmen im Industriepark von Suzhou in der ostchinesischen Provinz Jiangsu erworben hat. Die neue Anlage, die 170 Millionen Yuan kostet, wird nach ihrer Fertigstellung von der Mikroskopsparte des Unternehmens genutzt werden, was den Lokalisierungsgrad des Unternehmens weiter erhöht.

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